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极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本

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发表于 2024-8-2 14:47 | 显示全部楼层 |阅读模式

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【极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本】财联社8月2日电，据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
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发表于 2024-8-2 16:25 来自手机 | 显示全部楼层
好好学习天天向上
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